寧波材料所承擔的中科院重大裝備研制項目通過驗收

　　驗收會上，項目負責人、寧波材料所表面工程與再制造事業部研究員汪愛英向專家組做了項目研制工作、經費決算和用戶使用報告。技術測試組從研制裝備的運行、使用情況、和重點開展的技術測試實驗結果角度，做了技術測試報告。驗收專家組現場考察了研制的裝備系統并審核了相關技術資料，進行了認真提問和討論，認為項目組完成并部分超過了合同書規定的各項指標內容，驗收材料齊全，經費使用合理，一致同意通過驗收。

　　同時，專家組對該項目完成情況也給予了較高評價，指出該研制裝備不僅為寧波材料所更好完成高性能碳膜材料研究工作提供了良好技術平臺，而且項目執行過程中與區域特色企業的緊密結合，也為促進中科院重大科研裝備成果的進一步工程應用發揮了積極作用。

　　項目背景：

　　目前，具有高離化率、高沉積速率的陰極電弧沉積技術（CVA）是沉積ta-C超硬碳膜的主要方法，但制備過程中存在的宏觀大顆粒協同沉積和薄膜中的高殘余應力關鍵問題，使其廣泛應用受到極大限制。國內外采用不同結構設計的磁過濾技術雖在一定程度上可緩解大顆粒的污染問題，但在沉積速率和設備復雜度等方面尚存在不足。在2008年院裝備研制項目資助下，項目組通過系統理論計算、優化結構設計、關鍵部件選型與加工等大量工作，成功研制出了一套具有我國自主知識產權的運行可靠、先進的雙彎曲磁過濾陰極真空電弧復合磁控濺射沉積裝置。該裝置兼具宏觀大顆粒過濾有效、等離子體傳輸高效、大面積均勻低溫沉積的優點，而且結合研制的技術成熟、易于實現金屬沉積的磁控濺射復合技術特點，通過工藝參數調控，采用該裝置能夠可控制備出不同結構、功能設計的高性能薄膜材料。目前，項目組已初步制備出超硬（64GPa）、強膜基結合力（60N）、低應力（<6GPa）、低摩擦系數（0.1）、表面光滑的高質量ta-C碳膜材料，掌握了超薄ta-C碳膜可控技術，并實現了濺射制備超硬TiN（47GPa）薄膜材料工藝技術新突破。該裝備的研制成功，不僅為該所承擔的相關碳膜科研任務提供了重要的技術平臺支持，也將進一步推動MEMS、信息存儲、航空航天等高技術領域用高質量碳膜、金屬（化合物）薄膜材料技術的發展。