| 儀器名稱： | THERMCO 氧化LPCVD |
| 儀器編號： | 21014796 |
| 產地： | 英國 |
| 生產廠家： | THERMCO |
| 型號： | 2660 |
| 出廠日期： | |
| 購置日期： | 2021-07-21 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 蘇鑫（010-62781090,18511794134,sux@mail.tsinghua.edu.cn） 包艷琳（010-62784044,13020075088,baoyl@tsinghua.edu.cn） 曹秉軍（010-62784044,13910803625,caobj@mail.tsinghua.edu.cn） 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 微納電子 半導體 集成電路 MEMS 氧化 LPCVD |
| 技術指標： | 設備工藝能最大承載75片晶圓，工藝片為25片； 同時設備具備4,6 寸晶圓工藝兼容能力。可制備氧化、氮化硅、多晶薄膜。 |
| 知名用戶： | 吳華強 微電子所；許軍 微電子所；陳煒 微電子所；錢鶴 微電子所；劉澤文 微電子所；岳瑞峰 微電子所；王喆垚 微電子所；蔡堅 微電子所；鄧寧 微電子所；伍曉明 微電子所 |
| 技術團隊： | 曹秉軍，張忠會 |
| 功能特色： | 設備所有爐體為3 溫區，恒溫區長度300mm。氧化爐體最高溫度為1200度，工藝溫度最高為1100度；所有爐體都是由內外部熱電偶雙控溫模式以達到工藝溫度更精準更穩定。 |
